材料分析ステーション(MAS)の装置一覧

施設名 装置名称/手法 仕様 用途
材料分析ステーション(MAS) 誘導結合プラズマ発光分析装置(マルチ型)(720 ICP-OES) 1.プラズマ観測方向:アキシャル、2.分光器:エシェルクロス分散ポリクロメータ、波長範囲:167~785nm、窒素パージシステム、3.検出器:CCD検出器、4.ICP部⇒プラズマ:...

1.金属・セラミックス・有機物など溶液化可能な、あらゆる試料の精密元素分析、2.公定法分析への対応、3.溶液化した未知試料の定性分析

材料分析ステーション(MAS) 二重収束型ICP質量分析装置(ELEMENT XR) 1.高周波電源部⇒周波数:27.1MHz、出力:2kW、2.試料導入部⇒マスフローコントロールガス制御、ベリスタポンプ(4連)、3.インターフェース部⇒コーン:ニッケル、白金、4...

1.金属・セラミックス・有機物など溶液化可能な、あらゆる試料の精密元素分析、2.公定法への対応、3.溶液化した未知試料の定性分析

材料分析ステーション(MAS) 酸素窒素分析装置(LECO TC600)、水素分析装置(RH404)、炭素硫黄分析装置(CS444LS) 1.酸素・窒素解析部⇒インパルス加熱/赤外線検出方式及び熱伝導度検出方式、分析範囲:[酸素]0.05ppm~5%、[窒素]0.05ppm~3%(試料重量1gr時)、2.水素解析部⇒インパルス...

金属・セラミックス中のガス成分分析

材料分析ステーション(MAS) X線光電子分光分析装置(Quantera SXM) 1.走査型単色AlKα集束X線源、2.最小X線ビーム径:

金属、半導体、有機物等の表面分析

リンク先:事例集 ⇒ http://www.nims.go.jp/infrastructure/cases.html

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材料分析ステーション(MAS) 走査電子顕微鏡(JSM-6510) 1.Wフィラメント電子銃、2.二次電子分解能:3.0nm(30kV)、8nm(3kV)、15nm(1kV)、3.加速電圧:0.3~30kV、4.倍率:5~300,000、5.最大試料サイズ:φ150mm①Wフィラ...

表面の形状観察

 

材料分析ステーション(MAS) 電界放出形走査電子顕微鏡(JSM-6500F) 1.電界放出形電子銃、2.二次電子分解能:1.5nm(15kV)、3.0nm(1kV)、3.加速電圧:0.5~30kV、4.倍率:10~500,000、6.最大試料サイズ:φ100mm。①FE電子銃搭載、②4...

表面の形状観察及び元素分析

材料分析ステーション(MAS) 電子線プローブマイクロアナライザー装置(JXA-8900RL) 1.Wフィラメント電子銃、2.加速電圧:0.2~40kV、3.照射電流:1pA~10μA、4.波長分散型X線分光器:5基搭載、5.測定可能元素:Be~U、6.最大試料サイズ:100x100x50m...

金属、半導体等の表面の元素分析

材料分析ステーション(MAS) 走査型オージェ電子分光分析装置(JAMP-9500F) 1.空間分解能:

金属、半導体等の表面分析

事例集:http://www.nims.go.jp/infrastructure/cases.html

⇒ 材料分析ステーション 表面・微小領域分析グループ をご参照。

 

材料分析ステーション(MAS) 微小部蛍光X線分析装置(ORBIS PC) X線照射部⇒1.マイクロフォーカスRh管球:50kV-1mA、2.ポリキャピラリー30μm、3.7種自動交換フィルタ、4.WD7mm以上、検出器⇒1.SSD検出器(液体窒素レス)、2.測定範...

1.金属・セラミックスなど各種試料の非破壊分析、2.微小部の定性定量分析、3.前処理が不要、4.凹凸のあるサンプルでも測定可能(最大7mm)、5.フィルタ(7種)使用で微量分析が可能。

材料分析ステーション(MAS) 断面試料作製装置(SM-09020CP) 1.イオン加速電圧:2~6kV、2.イオンビーム径:500μm、3.最大搭載試料サイズ:11x10x2mm、4.試料角度調整範囲:±5°、5.ミリングスピード:100μm/hr、6.使用ガス:ア...

断面試料表面の鏡面加工

 

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