超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY)の装置一覧

施設名 装置名称/手法 仕様 用途
超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY) i線ステッパ 本装置は、レチクル上に描画されたパターンを超高圧水銀灯で照明し、縮小投影レンズを通してウェハ上に結像させ、焼き付けます。また、ウェハステージをステップ・アンド・リピ...

i線を用いたパターン露光

超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY) 有機洗浄装置A 本装置は、洗浄処理部のウェハステージに人手でウェハをセットすることで、薬液(レジスト剥離液)にて自動的にウェハの表面洗浄処理を行う枚葉式のスピン洗浄装置です。主な用途...

ウェハ洗浄

超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY) ICP型反応性イオンエッチング装置 有磁場ICP(Inductively Coupled Plasma)型高密度プラズマエッチング装置。低パワーでも安定・均一なプラズマが得られ、ダメージの少ないエッチングが可能。プラズマ密度と基板へ...

プラズマエッチング

超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY) コーターデベロッパー 本装置は、レシピを作成、登録することにより全自動でレジスト塗布、現像、ベークを行うことが出来ます。薬液は所定の温度、湿度に保たれており安定したレジスト塗布が可能です...

レジスト塗布

超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY) 有機洗浄装置B 本装置は、洗浄処理部のウェハステージに人手でウェハをセットすることで、薬液(レジスト剥離液)にて自動的にウェハの表面洗浄処理を行う枚葉式のスピン洗浄装置です。主な用途...

ウェハ洗浄

超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY) 反応性イオンエッチング装置(Ulvac) 並行平板型反応性イオンエッチング装置。ロードロック付き。ウェハは自動搬送。枚葉式処理。タッチパネル制御。エッチングレシピ登録可能。エッチングログ保存機能。・型式:ULVA...

プラズマエッチング

超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY) NbNジョセフソン素子作製装置 交流高電圧によりN2(またはAr)プラズマを発生させて成膜材料へ衝突させることにより、基板へNbN(またはNb)の超伝導薄膜をスパッタします。TiN(またはTi)の常伝導膜との組み合わ...

成膜