産業技術総合研究所(AIST)の装置一覧

施設名 装置名称/手法 仕様 用途
ナノプロセシング施設(NPF) ナノプローバ(N-6000SS) ・プローブユニットユニット数:6本(探針数)微動範囲:5um(X,Y軸)粗動範囲:5mm(X,Y軸)駆動方式:ピエゾ素子使用・試料ステージ試料サイズ:15mm×15mm、厚さ1mm以下可動範囲:15mm×15m...

成膜

ナノプロセシング施設(NPF) ECRスパッタリング装置 ・電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマスパッタ方式・成膜可能材料: Al2O3、SiO2、AlN、SiN・基板サイズ: 最大φ100 x t3 mm・基板加熱: Max 300 ℃・成膜距離: 100 ~ 200 mm・...

成膜

ナノプロセシング施設(NPF) エックス線光電子分光分析(XPS)装置 エックス線光電子分光分析(XPS)装置・X線源 Rowland 円直径 500 mm モノクロメータ付Al Kα (1486.6 eV)・光電子分光器 軌道半径165 mm静電二重半球型アナライザー/球面鏡アナラ...

エックス線光電子分光分析(XPS)

ナノプロセシング施設(NPF) マスクレス露光装置 露光パターン発生用の空間光変調器にDMD(Digital Micromirror Device)を用いたマスクレス方式の露光装置です。フォトマスクを使用せずに、CADデータ(GDSII形式)にした任意の形状...

パターン露光

ナノプロセシング施設(NPF) 原子層堆積装置 本装置は原子層堆積法(Atomic Layer Deposition:ALD)を利用して原子層レベルで膜厚を制御して平坦で緻密な薄膜を形成する装置です。CVD法やPLD法と比較してアスペクト比の高...

金属薄膜、半導体薄膜、誘電体薄膜の成膜

ナノプロセシング施設(NPF) 超純水製造装置
ナノプロセシング施設(NPF) 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR) 赤外分光法を利用し、試料の定性・定量解析を行うフーリエ変換装置です。レーザーラマン同様、コンフォーカル機能を搭載した光学顕微鏡システムとの組み合わせにより、高分解能...

計測

ナノプロセシング施設(NPF) 顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN) サンプルにレーザーを照射し、得られるラマン効果を利用して、試料の分子構造や未知物質の同定を非破壊で行う装置です。コンフォーカル機能を搭載した光学顕微鏡システムとの組...

計測

ナノプロセシング施設(NPF) 二次イオン質量分析装置(D-SIMS) 試料にイオンを照射し、試料表面からスパッタリング放出される二次イオンを質量分析することによって深さ方向の元素分布情報を得る分析手法です。固体表面の検出感度が高く、1H...

計測

ナノプロセシング施設(NPF) 微小部蛍光X線分析装置(XRF) 型式:SEA5120A・分析元素:Na~U、Si(Li)半導体検出器(LN2冷却)、RhX線管励起、上部垂直照射・コリメータ:φ0.1;1;2.5 mm、最大試料サイズ:80 x 80 x 35 (mm)、試料形態:固形;薄...

計測

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