電子線蒸着装置

機関 筑波大学
施設名 微細加工プラットフォーム
メーカー 株式会社エイコー
型式 EB-350T
用途

Au、Al等の蒸着膜の作成

仕様(特徴・詳細)

電子線蒸着装置は高真空中で、固体を電子ビームにより加熱蒸発させ、この蒸気を一定の温度に保持した基板上に堆積させて薄膜を形成する装置です。
本装置は、蒸着室、ロードロック室の2室で構成されています。
蒸発面に対して基板が±90°回転しますので、傾斜蒸着が可能です。

到達圧力:1.0 × 10-6 Pa以下
蒸発源:5 kW 5連EBガン
ルツボ容量:5 cc
基板ホルダー:Φ3インチ

株式会社エイコーのEB-350T解説ページ
http://www.1974eiko.co.jp/database/database.cgi?cmd=dp&Tfile=Data&num=31&dp=default.html

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問合せ先

筑波大学微細加工プラットフォーム事務局
e-mai: staff[@]u-tsukuba-nanotech.jp
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備考

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