X線光電子分光分析装置(Quantera SXM)

機関 物質・材料研究機構(NIMS)
施設名 材料分析ステーション(MAS)
メーカー アルバック・ファイ
型式 Quantera SXM
用途

金属、半導体、有機物等の表面分析

リンク先:事例集 ⇒ http://www.nims.go.jp/infrastructure/cases.html

⇒ 材料分析ステーション 表面・微小領域分析グループ へお進みください。

仕様(特徴・詳細)

1.走査型単色AlKα集束X線源、2.最小X線ビーム径:<10μm、3.X線源パワー:1~100W、4.エネルギー分解能:<0.5eV(Ag3d5/2)、5.最大感度:>3Mcps、1.3eV FWHM(Ag3d5/2)。

①~10nm以下の表面の元素分析及び化学状態(価数)分析が可能。

 

詳細リンク先 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先

chukaku[@]nims.go.jp(お問合せ頂く際は[ ]を外して下さい)

技術開発・共用部門事務統括室

TEL029-860-4939

〒305-0047つくば市千現1-2-1

備考
施設画像
検索キーワード 表面分析 X線 光電子分光 価数 元素 分析