RTA(赤外線急速アニール炉:20mm)

機関 物質・材料研究機構(NIMS)
施設名 微細加工プラットフォーム(NFP)
メーカー
型式
用途

不活性/還元/酸素雰囲気での急速加熱処理、

仕様(特徴・詳細)

ランプ出力、本数:2kW×4本、温度範囲:室温~1200℃(常用)、最高1350℃、プロセスガス:N2、Ar+H2(3%)、Ar、O2、真空置換機能あり、試料サイズ・個数:20mm□×4個、試料台材質:SiCコートグラファイト、グラファイト、シリコン、

 

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問合せ先

 

chukaku[@]nims.go.jp(お問合せ頂く際は[ ]を外して下さい)

技術開発・共用部門事務統括室

TEL029-860-4939

〒305-0047つくば市千現1-2-1

備考
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