FIB-SEMダブルビーム装置

機関 物質・材料研究機構(NIMS)
施設名 微細加工プラットフォーム(NFP)
メーカー SIIナノテクノロジー
型式 Xvision200DB
用途

TEM試料作製,イオン照射による直接加工

仕様(特徴・詳細)

イオン源 Ga液体金属

FIB加速電圧 1-30kV

電子銃 ZrO/W熱電界放射型

SEM加速電圧 1-30kV

試料サイズ 最大φ8インチ

その他 FIB:試料ステージに直交/SEM:FIBに対して54度傾斜,カーボンデポジションシステム,マイクロプロービングシステム

詳細リンク先 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先

NIMS微細加工プラットフォーム事務局
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
TEL:029-851-3354(ex.3960)
FAX:029-859-2309
Email:NIF-office@nims.go.jp

備考

微細加工プラットフォーム

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