原子層堆積装置(1)

機関 物質・材料研究機構(NIMS)
施設名 微細加工プラットフォーム(NFP)
メーカー Picosun (アルテック)
型式 SUNALE R-100B
用途

高品質絶縁膜形成

仕様(特徴・詳細)

成膜材料: Al2O3、HfO2
原料: TMA、TEMAHf、H2O
成膜温度: 100 – 450度
成膜レート: 0.1 nm/Cycle
試料サイズ: 最大φ4インチ

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問合せ先

NIMS微細加工プラットフォーム事務局
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1
TEL:029-851-3354(ex.3960)
FAX:029-859-2309
Email:NIF-office[@]nims.go.jp
(メールでお問い合わせ頂く際は[ ]を外してメールしてください)

備考

微細加工プラットフォーム

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