エックス線光電子分光分析(XPS)装置

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 ナノプロセシング施設(NPF)
メーカー KRATOS ANALYTICAL / (株)島津製作所
型式 AXIS Nova
用途

エックス線光電子分光分析(XPS)

仕様(特徴・詳細)
エックス線光電子分光分析(XPS)装置
・X線源 Rowland 円直径 500 mm モノクロメータ付Al Kα (1486.6 eV)
・光電子分光器 軌道半径165 mm静電二重半球型アナライザー/球面鏡アナライザー複合型

・検出器 ディレイラインディテクター(DLD)システム
・スペクトル分析 100チャネル同時計測
・メージング 256 × 256画素(最大分解能3 μm)
・最小スペクトル分析面積 15 μmΦ
・エネルギ分解能 Ag 3d5/2光電子ピークが半値幅0.48 eV以下
・帯電中和 均一低エネルギー電子照射
・試料サイズ 110 mmΦ, 高さ10 mm (専用ホルダ使用で約20 mm迄可)
・光電子取り出し角度 垂直(標準), 0~90°(傾斜観察ホルダ使用)* 傾斜観察時は試料サイズの制限があります。
・エッチングイオン銃 Ar+, 多原子(コロネンC24H12 )イオン
・搭載オプション He紫外線光源(UPS用 21.2, 40.2 eV)トランスファーベッセル

島津製作所によるAXIS Nova解説ページ
http://www.an.shimadzu.co.jp/surface/xps/nova/index.htm

原理(ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会監修)
エックス線光電子分光分析(XPS)
http://www.tsc-web.jp/map/pdf/XPS.pdf

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問合せ先

国立研究開発法人産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進センター共用施設運営ユニット共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1
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TEL:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Email:tia-kyoyo-ml[@]aist.go.jp
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