マスクレス露光装置

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 ナノプロセシング施設(NPF)
メーカー ナノシステムソリューションズ
型式
用途

パターン露光

仕様(特徴・詳細)

露光パターン発生用の空間光変調器にDMD(Digital Micromirror Device)を用いたマスクレス方式の露光装置です。
フォトマスクを使用せずに、CADデータ(GDSII形式)にした任意の形状を基板上のフォトレジストに直接パターニングすることができます。
光源は波長405 nmのLEDです。露光最小画素は□1 μm、最大露光領域は□100 mm、重ね合わせ精度は±1 μmです。

株式会社ナノシステムソリューションズのマスクレス露光装置解説ページ
http://www.nanosystem-solutions.com/product/maskless.html

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問合せ先

国立研究開発法人産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進センター共用施設運営ユニット共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1
つくば中央第2事業所 2-12棟
TEL:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Email:tia-kyoyo-ml[@]aist.go.jp
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備考
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