マスクアライメント露光装置

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 ナノプロセシング施設(NPF)
メーカー 共和理研
型式 K-310P100S
用途

パターン露光

仕様(特徴・詳細)

・型式 : K-310P100S
・露光源 : ウシオ電機マルチライト 超高圧水銀ランプ
・主波長 : 365 nm(i線)
・照度 : 約32 mW/cm2
・露光モード : コンタクト方式
・ウェハサイズ : 小片基板~4インチ
・露光領域 : 最大85 mm□

共和理研のマスクアライメント露光装置解説ページ
http://www.kyowariken.co.jp/k310p.htm

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国立研究開発法人産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進センター共用施設運営ユニット共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1
つくば中央第2事業所 2-12棟
TEL:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Email:tia-kyoyo-ml[@]aist.go.jp
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