コンタクトマスクアライナー(MJB4)

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 ナノプロセシング施設(NPF)
メーカー SUSS MicroTec
型式
用途

パターン露光

仕様(特徴・詳細)

5種類の露光モードを持ち、サブミクロン域までの露光や高精度なアライメント露光が可能な、コンタクト方式高性能手動マスクアライナです。
基板は4インチウェハまで対応し、破片状の小片基板なども処理できます。
フォトマスクは、ホルダーのガイド位置を変えれば、2.5~5インチマスクまで取り付けることが可能です。
・基板サイズ:2インチ~4インチ、不定形小片~100 mm
・解像度 :約800 nm(バキュームコンタクト使用時)
・波長 :g線・照度 :約40 mW/cm2
・露光モード:プロキシミティ、ソフトコンタクト、ハードコンタクト、ソフトバキュームコンタクト、バキュームコンタクト
・露光領域 :2.5~5インチ対応マスクホルダー 最大40 mm□
・4インチ,5インチ対応マスクホルダー 最大75 mmφ

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問合せ先

産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進本部
共用施設調整室
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1つくば中央第2事業所
つくば本部・情報技術共同研究棟9階
TEL: 029-862-6592
FAX: 029-862-6048
E-mail: ibec_info-ml[@]aist.go.jp
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