高速昇降温炉(RTA)

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 ナノプロセシング施設(NPF)
メーカー アルバック理工株式会社
型式
用途

加熱

仕様(特徴・詳細)

赤外線ランプとゴールドミラー集光機構を備えた高速昇温可能な加熱装置です。
試料は、石英管内の3インチカーボンサセプタに乗せ、真空又は、不活性ガス(Ar, N2)雰囲気による加熱が行えます。
プログラムコントローラによる昇降温レート、加熱時間のコントロールが可能です。
・温度範囲:100 ~ 1000 ℃(801 ℃以上時間制限有り)
・雰囲気:真空、不活性ガスフロー(Ar, N2)
・試料ステージ:3インチウェーハ 1枚平置き用カーボンサセプタ(SiCコート)
・加熱制御方式:マイクロコンピュータデジタルメモリー方式(最大99ステップ)
・最大加熱速度:20 ℃/sec (実力値、若干のオーバーシュートを伴います)
・均熱ゾーン:3インチ (Ф75 mm)・均熱精度:±10 ℃ @ 800 ℃
・温度制御:カーボンサセプタ埋め込みK熱電対によるフィードバックPID制御
・到達真空度:10-2 Torr台

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問合せ先

産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進本部
共用施設調整室
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1つくば中央第2事業所
つくば本部・情報技術共同研究棟9階
TEL: 029-862-6592
FAX: 029-862-6048
E-mail: ibec_info-ml[@]aist.go.jp
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備考
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