マスクレス任意パターン転写装置

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 ナノプロセシング施設(NPF)
メーカー ナノシステムソリューションズ
型式
用途

パターン露光

仕様(特徴・詳細)

パターンマスクを使わずに、パターンをウエハーに転写する装置です。
パワーポイントで作成したパターンを、プロジェクターと対物レンズでウェハーに投影して転写します。
光源は150 W高圧水銀灯を使用し、露光波長は436 nm(g線)です。
・投影方式:DLP(DMP単板)方式
・光源:150 W、高圧水銀灯
・露光波長:436 nm(g線)
・画素数:1024ドット×768ドット
・露光面積:約0.07 mm × 0.09 mm(100倍の対物レンズ使用時)、約3.27 mm×4.35 mm(2倍の対物レンズ使用時)

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問合せ先

産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進本部
共用施設調整室
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1つくば中央第2事業所
つくば本部・情報技術共同研究棟9階
TEL: 029-862-6592
FAX: 029-862-6048
E-mail: ibec_info-ml[@]aist.go.jp
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