セミオートディベロッパー

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 先端ナノ計測施設(ANCF)
メーカー ソフエンジニアリング
型式
用途

レジスト現像

仕様(特徴・詳細)

本装置は露光後のレジスト現像を行うセミオートデベロッパーです。
本装置は、 従来型のスプレー現像・エッチング処理方式ではパターン倒壊を招くような極微細かつアスペクト比の高いレジストパターンの現像・エッチングに対応 しています。
窒素ガスを使用した2流体ノズルスプレーを備えています。
・現像液:TMAH2.38%(NMD-W、MF319、MF450等可能)
・乾燥:窒素ブロー
・対応ウェハーサイズ:3、4inch(排他使用)
・現像可能レジスト:PFI-68、26、ZPN1150、NPR9700。

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問合せ先

産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進本部
共用施設調整室
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1つくば中央第2事業所
つくば本部・情報技術共同研究棟9階
TEL: 029-862-6592
FAX: 029-862-6048
E-mail: ibec_info-ml[@]aist.go.jp
(メールでお問い合わせ頂く際は[ ]を外してメールしてください)

備考

導入年月日:2012年
・利用可能なサンプル:清浄ベア基板または所定の洗浄プロセスにて処理された基板。
・プロセス可能な基板サイズ:3, 4 inchウェハ
・実際の利用に当たっては装置管理者の指示に従うこと。

施設画像
検索キーワード セミオート制御2流体ノズル スプレー現像 ディップ現像 高精度現像 4インチ