反応性イオンエッチング装置(Ulvac)

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY)
メーカー ULVAC
型式 CE-300R
用途

プラズマエッチング

仕様(特徴・詳細)

並行平板型反応性イオンエッチング装置。
ロードロック付き。ウェハは自動搬送。
枚葉式処理。タッチパネル制御。
エッチングレシピ登録可能。エッチングログ保存機能。
・型式:ULVAC CE-300R
・装置形態:エッチング室 x 1 + ロードロック室
・RF電源:最大出力300 W
・最大基板サイズ:Φ3 inchウェハ
・チップ状試料の場合はトレイ処理が可能
・基板保持機構:静電チャックおよびHeガス冷却機構
・電極水冷用チラー
・エッチングガス圧: 5 – 200 Pa
・到達真空度:5 x 10-4 Pa以下
・TMPおよびドライポンプで排気
・使用ガス:SF6、O2
・エッチング終点検出可能。
・主にエッチングしている材料:Nb
・Nbのエッチングレート: 200 nm/min

詳細リンク先 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先

国立研究開発法人産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進センター共用施設運営ユニット共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1
つくば中央第2事業所 2-12棟
TEL:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Email:tia-kyoyo-ml[@]aist.go.jp
(メールでお問い合わせ頂く際は[ ]を外してメールしてください)

備考

・設置場所:2-12棟1131クリーンルーム内。
・使用可能サンプル:清浄ベア基板または所定の洗浄プロセスにて処理された基板。
・エッチング可能な基板サイズ:3 inchウェハ。その他の基板サイズの場合はご相談ください。
・実際の利用に当たっては装置管理者の指示に従うこと。

施設画像
検索キーワード エッチング プラズマエッチング ドライエッチング 異方性エッチング ロードロック式 自動搬送 枚葉式 タッチパネル制御 レシピ制御 Nb 3インチ