有機洗浄装置B

機関 産業技術総合研究所(AIST)
施設名 超伝導アナログ・デジタルデバイス開発施設(CRAVITY)
メーカー
型式
用途

ウェハ洗浄

仕様(特徴・詳細)

本装置は、洗浄処理部のウェハステージに人手でウェハをセットすることで、薬液(レジスト剥離液)にて自動的にウェハの表面洗浄処理を行う枚葉式のスピン洗浄装置です。主な用途として反応性イオンエッチング(RIE)後のレジスト剥離、洗浄に用います。下記の各機能をプログラム(レシピ)で設定して、設定レシピに応じた自動洗浄を行うことができます。

・ウェハ保持:ウェハ裏面のバキュームチャック
・レジスト剥離液:NMP、ノズル吐出又は高圧ジェット吐出
・薬液温度:通常80 ℃に設定
・ブラシスクラブ洗浄:PVA回転ブラシ、搖動可
・メガソニックシャワー洗浄(超純水)
・乾燥:スピン乾燥(3000 rpm)+N2ブロー
・バックブロー:N2ブローによりウェハ裏面への洗浄液の回り込み防止機能有り。
・洗浄可能なウェハサイズ:3インチのみ
・洗浄時間:レシピ設定に依存、標準的には10分程度/ウェハ

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問合せ先

国立研究開発法人産業技術総合研究所
つくばイノベーションアリーナ推進センター共用施設運営ユニット共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1
つくば中央第2事業所 2-12棟
TEL:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Email:tia-kyoyo-ml[@]aist.go.jp
(メールでお問い合わせ頂く際は[ ]を外してメールしてください)

備考

・設置場所:2-12棟1131クリーンルーム内。
・使用可能サンプル:基本的にベアウェハまたはレジスト付着ウェハの洗浄のみ。金などのリフトオフでの使用は不可。
・実際の利用に当たっては装置管理者の指示に従うこと。

施設画像
検索キーワード ウェハ洗浄 全自動 枚葉式 有機洗浄 メタルリフトオフ不可