パターン投影リソグラフィーシステム

機関 筑波大学
施設名 微細加工プラットフォーム
メーカー Heidelberg Instruments
型式 µPG501
用途

デジタルミラー素子(DMD)を用いることでパターン投影し、クロムマスクブランクやレジスト塗布基板に最小1 µmの回路パターンを超高速で作成できる。

仕様(特徴・詳細)

光源:LED(波長390nm)
最大基板サイズ:5インチ
対応フォーマット:DXF, GDSII, Gerber, CIF等
対応レジスト:SU-8, i線およびg線用等

詳細リンク先 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先

筑波大学微細加工プラットフォーム事務局
e-mai: staff[@]u-tsukuba-nanotech.jp
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