分子物質合成装置群:C4の装置一覧

機関名 施設名 装置名称/手法 仕様 用途
物質・材料研究機構(NIMS) 分子物質合成プラットフォーム(MMSP) プラズマ処理装置 プラズマモード RIE電極構造 平行平板高周波出力 100~300W発信周波数 13.56MHzチャンバー材質 アルミ製反応ガス 酸素パージガス 窒素または空気

プラズマを使用した表面処理装置です。有機膜、金属酸化膜の除去やプリント基板のドライクリーニングに使用できます。

物質・材料研究機構(NIMS) 分子物質合成プラットフォーム(MMSP) クライオスタット

光学顕微鏡サンプル調整用