微細加工装置群:E7の装置一覧

機関名 施設名 装置名称/手法 仕様 用途
産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) マスクレス任意パターン転写装置 パターンマスクを使わずに、パターンをウエハーに転写する装置です。パワーポイントで作成したパターンを、プロジェクターと対物レンズでウェハーに投影して転写します。光源は1...

パターン露光

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) マスクレス露光装置 露光パターン発生用の空間光変調器にDMD(Digital Micromirror Device)を用いたマスクレス方式の露光装置です。フォトマスクを使用せずに、CADデータ(GDSII形式)にした任意の形状...

パターン露光

筑波大学 微細加工プラットフォーム パターン投影リソグラフィーシステム 光源:LED(波長390nm)最大基板サイズ:5インチ対応フォーマット:DXF, GDSII, Gerber, CIF等対応レジスト:SU-8, i線およびg線用等

デジタルミラー素子(DMD)を用いることでパターン投影し、クロムマスクブランクやレジスト塗布基板に最小1 µmの回路パターンを超高速で作成できる。

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) レーザー露光装置 光源 405nm半導体レーザー(h線)照度 300mW/cm2位置決め精度 ±1um以下重ね合わせ精度 ±1um以下試料サイズ 最大4インチ角その他 自動/手動アライメント機能,汎用CAD/画像ファ...

マスクレスマイクロパターニング

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 高速マスクレス露光装置 光源 : 405nm LED(h線)照度 : 1W/cm2位置決め精度 : ±100nm以下重ね合わせ精度 : ±100nm以下試料サイズ : 最大8インチ角その他 : スキャニング高速露光,自...

高速高精度マスクレスパターニング