微細加工装置群:D7の装置一覧

機関名 施設名 装置名称/手法 仕様 用途
産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) 電子線描画装置 細く絞った電子線を基板表面に照射し、微細な加工(描画)を行うための装置です。その分解能は電子線のビーム径に依存します。電子線をスポット照射させる加工方法である為、加工...

パターン露光

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) 電子ビーム描画装置 細く絞った電子線を基板表面に照射し、微細な加工(描画)を行うための装置です。その分解能は電子線のビーム径に依存します。電子線をスポット照射させる加工方法である為、加工...

パターン露光

筑波大学 微細加工プラットフォーム 電子線描画装置 加速電圧:5 – 50 kV最小線幅:10 nm試料サイズ:MAX 4″

電子線描画による微細なレジストパターンの形成

筑波大学 微細加工プラットフォーム レーザー描画装置 レーザー描画装置は、レーザー光でレジスト上にパターンを直接描画(マスクレス描画)するための装置です。エッチング等のプロセスと組み合わせて、微細な溝パターン加工を行う...

光学露光用レチクルの作成

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 100kV電子ビーム描画装置 電子銃 ZrO/W熱電界放射型最大加速電圧 100kV (25kVステップで可変)フィールドつなぎ精度 40nm重ね合わせ精度 40nm試料サイズ 最大φ6インチその他 汎用CAD(dxfファイル)にも対...

高精細ナノパターニング

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 125kV電子ビーム描画装置 電子銃 : ZrO/W熱電界放射型最大加速電圧 : 125kV (25kVステップで可変)フィールドつなぎ精度 : < 25nm (600umフィールド)重ね合わせ精度 : < 30nm(600umフィール...

高速高精細ナノパターニング