微細加工装置群:B5の装置一覧

機関名 施設名 装置名称/手法 仕様 用途
産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) プラズマCVD装置 本装置は液体ソースを用いたプラズマ化学気相成長装置であり、テトラエトキシシラン(TEOS)を原料として酸化シリコン膜を成膜することができます。 RF電源はオートマッチン...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) 原子層堆積装置 本装置は原子層堆積法(Atomic Layer Deposition:ALD)を利用して原子層レベルで膜厚を制御して平坦で緻密な薄膜を形成する装置です。CVD法やPLD法と比較してアスペクト比の高...

金属薄膜、半導体薄膜、誘電体薄膜の成膜

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) プラズマCVD装置 プラズマ方式 平行平板型電源出力 30-300W原料 TEOS成膜温度 400度以下試料サイズ 最大φ8インチ

高品質SiO2薄膜形成