微細加工装置群:A5の装置一覧

機関名 施設名 装置名称/手法 仕様 用途
産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) 原子層堆積装置 本装置は原子層堆積法(Atomic Layer Deposition:ALD)を利用して原子層レベルで膜厚を制御して平坦で緻密な薄膜を形成する装置です。CVD法やPLD法と比較してアスペクト比の高...

金属薄膜、半導体薄膜、誘電体薄膜の成膜

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) オスミウムコーター(2) 成膜材料:オスミウム金属、成膜方式:プラズマCVD、試料サイズ:最大φ4インチ、

絶縁物等を走査電子顕微鏡で観察する際に、オスミウム金属の導電薄膜を形成する、SEM前処理