微細加工装置群:A4の装置一覧

機関名 施設名 装置名称/手法 仕様 用途
産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) イオンスパッタ(FIB付帯装置) 集束イオンビーム加工観察において、熱伝導性のない試料の昇華や融解による形状変形 及び熱改質の防止、試料の表面へのイオン注入による汚染(orイオンビーム入射による表面改質)...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) スパッタ装置 高周波励起によりArプラズマを発生させて成膜材料へ衝突させることにより、基板へ均質緻密な膜をスパッタします。ロードロック室付なので基板交換を効率良く迅速に行えます。3種...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) 多元同時スパッタ装置 この装置は複数のソースを同時にスパッタし成膜することが可能です。膜厚分布は±5 %以内(5インチ基板にSiO2を堆積した場合)です。また、基板とソースとの距離(Target-Substrate(...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) RF・DCスパッタ装置 この装置は、スパッタリング現象を利用して、薄膜を作製するためのものです。マグネトロンカソードを4インチ3式、3インチ1式装備しています。構成は、RF用非磁性3インチ×1、非磁...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) 真空蒸着装置 高真空中で金属や化合物などの成膜材料へ電子ビームを照射し、発生した蒸発物を基板上に付着堆積させることにより成膜します。成膜シ-クェンスを組むことにより、最大8種までの...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) 小型真空蒸着装置 ボート等の抵抗体に金属や化合物などの成膜材料を入れ、電流を流して加熱、蒸発させることにより、材料を基板上に成膜します。3種類の材料をセット可能なので多層膜の作成も可能...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) イオンコーター (SEM, FIB付帯装置) 走査電子顕微鏡観察において、導電性のない試料を観察する際の帯電障害(チャージアップ)を防止するために、Ptあるいはカーボンコーティングをするための装置です。・型式:E-1030...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) 先端ナノ計測施設(ANCF) Nb-Alジョセフソン接合作製装置[標準型] 本装置は、ロードロック室、酸化室、ALスパッタ室、Nbスパッタ室の4チャンバーで構成され、真空状態でウエハを搬送させ多層膜を形成するこが可能です。酸化室ではRF逆スパッタに...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) 先端ナノ計測施設(ANCF) Nb-Alジョセフソン接合作製装置[In-situ分析器&オゾン酸化器付] 直流高電圧によりArプラズマを発生させて成膜材料へ衝突させることにより、基板へ均質緻密な膜をスパッタします。ロードロック室付きなので基板交換を効率よく迅速に行えます。2...

成膜

産業技術総合研究所(AIST) 先端ナノ計測施設(ANCF) マルチターゲット(六源)スパッタ装置 ・最大基板サイズ:4inchウェハ。・成膜チャンバーとサンプル搬入用ロードロックの2チャンバー構成。・スパッタ方式:DC、RF可能。・成膜時の圧力コントロール精度:0.2 mTorr以下...

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