計測用装置群:G11の装置一覧

機関名 施設名 装置名称/手法 仕様 用途
産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) デバイスパラメータ評価装置 この装置は、プローバーシステムと半導体パラメータアナライザーから構成されています。ダイオードやFETなど様々なデバイスの電気伝導特性の測定と解析を行うことができます。・...

計測

産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) デバイス容量評価装置 この装置では、試料表面に電圧をかけたとき発生する電流を測定し、その値から、電気容量などの電気的特性を調べることができます。・型式:Model 82-WIN・測定周波数:100kHz、1MH...

計測

産業技術総合研究所(AIST) 先端ナノ計測施設(ANCF) オートプローバ 本装置は、ウェハステージに人手でウェハをセットすることで、自動的にプロービング測定を行うセミオートプローバです。試作途中又は試作後のウェハの2端子、4端子測定が可能で...

プローバ

産業技術総合研究所(AIST) 先端ナノ計測施設(ANCF) マニュアルプローバ 本装置は、ウェハステージに人手でウェハをセットし、マイクロポジショナー(ニードル)をマニュアルで測定箇所に合わせて測定するマニュアルプローバです。試作途中又は試作後の...

プローバ

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 低温プローバー 温度範囲:8~300K、サンプルサイズ:最大4インチφ、マニピュレーター:4本、半導体パラメータアナライザー:4系統、高速パルスI-V測定、

IVおよびCV特性を室温から8Kの極低温までの温度依存性として計測、

 

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 室温プローバー サンプルサイズ:最大4inchφ、マニピュレーター:4本、半導体パラメータアナライザー:IV 4系統、CV 1系統、試料台加熱機能、 

IVおよびCV特性を、室温から200℃までの温度依存性として計測、

 

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 液体窒素プローバーシステム 測定温度:77K~500K、プローブ数:4本、試料サイズ:最大20mm、

液体窒素温度から200度付近までの温度で電気特性が測定できる、電気特性評価、