計測用装置群:D13の装置一覧

機関名 施設名 装置名称/手法 仕様 用途
産業技術総合研究所(AIST) ナノプロセシング施設(NPF) 分光エリプソメータ この装置は、半導体やガラス基板上に成膜した薄膜の膜厚及び組成の同時測定、多層膜の膜厚測定を目的とした装置です。TFT多層膜、Low-k、High-k材料、低温P-Siなどの評価も可能...

計測

物質・材料研究機構(NIMS) 強磁場ステーション(TML) 強磁場光学測定システム パルス磁石⇒磁場:最大40T、ボア径:30mm(室温)、パルス幅:約5msec、超伝導磁石⇒磁場:15T、ボア径:40mm(低温)

主に強磁場中での分光測定。その他に電気抵抗測定、磁化測定も可。ミリ波からサブミリ波、テラヘルツ波、赤外、可視、紫外までの測定が可能。(一部条件あり)。

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 自動エリプソメータ 測定方式 回転位相子法光源 632nm He-Neレーザービーム系 0.8mm入射角 50,60,70度試料サイズ 最大φ6インチ

絶縁膜形成評価

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 顕微ラマン分光計 励起波長:515nm、488nm、633nm、ラマンシフト範囲:±9999(1/cm)、分光器:シングルモード>200(1/cm)、トリプルモード:>30(1/cm)、

顕微鏡観察可能であるならば、様々な状態のサンプルのラマン測定が可能、

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR) 測定レンジ:400~4000(1/cm)、測定モード:透過、ATR、拡散反射、

高速、高スループット、高波数分解能のIR測定が可能、光学特性の評価、

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 紫外可視近赤外分光計V-570 透過測定:190~2500nm、反射測定:220~2000nm、試料:liquid、powder、film、

近紫外から近赤外までの汎用的分光光度計、光学特性の評価、

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 紫外可視近赤外分光計V-7200 透過測定:185~3300nm、反射測定:250~2000nm、試料:liquid、powder、film、

赤外域が3300nmまで測定可能な、紫外-近赤外分光光度計、光学特性の評価、

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 蛍光分光計 発光波長:200~750nm、励起波長:200~750nm、温度範囲:0~100℃、試料:liquid、powder、film、

温度可変の汎用的蛍光分光計、光学特性の評価、

物質・材料研究機構(NIMS) 微細加工プラットフォーム(NFP) 顕微PL測定装置 励起レーザー波長:325nm、532nm、測定レンジ:200~1100nm、

顕微測定可能な蛍光高度計、光学特性の評価、